“……汇报在亚纳米尺度下栅极长度控制及基于新型高迁移率沟道材料的器件集成方面取得的最新进展……实验数据显示，在等效物理栅长0.8纳米条件下，器件性能与漏电控制达到理论预期……为1纳米及以下节点逻辑器件的可行性提供了有力证据……”
1纳米及以下节点！等效物理栅长0.8纳米！
林飞倒吸一口凉气！心脏砰砰狂跳！
这已经不是对口了，这简直是瞌睡遇到了枕头！
不，是饿极了看到满汉全席！
他原本的计划，是找到一些能做芯片设计、或者对现有工艺有深刻理解的人才。
然后利用国际上最先进的2纳米代工厂来生产神脑头盔所需的超高性能芯片。
毕竟，处理海量神经信号、运行复杂意识交互算法，对芯片的算力、能效比要求是天文数字。
他初步估算，至少需要5纳米甚至3纳米工艺才能勉强满足基本需求，理想状态是未来的0.5纳米工艺。
而目前全球最顶尖的量产技术是2纳米，1纳米还停留在实验室探索阶段，至于0.5纳米，更是属于科幻范畴。
可现在，就在江城，就在一所理工大学里，一个低调的老教授和他的学生团队，居然不声不响地摸到了1纳米的门槛，甚至在探索更低的节点？！
而且看报告摘要，他们似乎在最关键的材料和器件物理层面取得了突破性进展！
这意味着什么？
意味着他们研究的，不仅仅是芯片设计，而是包括了制造芯片的核心母机——光刻机以及与之配套的整套工艺整合技术！
只有掌握了更高精度的光刻和工艺，才能造出更小的晶体管！
诚然，林飞从龙傲天的“系统遗产”中，确实拥有完整且远超这个时代的光刻机技术资料，别说1纳米，0.1纳米甚至更夸张的技术都有。
但技术资料是死的，要把图纸变成现实，需要庞大的工程团队、天量的资金投入和以年为单位的时间。
这完全不比研发意识头盔本身简单。
他的计划是，先集中火力攻克脑机接口和虚拟世界技术，用市场上能买到的最好芯片让产品先跑起来，占领市场和生态。
等站稳脚跟后，再慢慢布局自研光刻机和芯片制造，实现全产业链自主可控。
然而，傅国生教授团队的出现，彻底打乱了他的节奏，也给了他一个巨大的惊喜！
如果这个团队真的在1纳米光刻和工艺上接近突破，那岂不是说，他有可能大大提前实现芯片自研的梦想？
甚至，在神脑头盔问世时，就能用上自研的、领先全球的超高性能芯片？
这将是何等巨大的优势！
激动过后，林飞迅速冷静下来。
他仔细分析着获取到的有限信息。
从专利和报告摘要看，这个团队的技术路径非常独特，似乎绕开了一些传统EUV光刻的难点，在新材料和新结构上找到了突破口。
但摘要也含糊地提到“在光源稳定性与缺陷控制方面仍面临最终挑战”。
看来，他们是卡在了最后一个，也可能是最关键的技术瓶颈上。
“了不起……真的了不起……”林飞喃喃自语，心中充满了敬佩。
要知道，目前国内最先进的量产光刻机还停留在28纳米水平。
虽然不断追赶，但与世界最先进的2纳米差距巨大。
而傅国生团队，完全依靠自身的学术积累和有限的科研经费，竟然能独自摸索到1纳米的前沿，距离突破只差临门一脚！
这已经不是“有点东西”了，这简直是“逆天”！是找到宝藏了啊！
他林飞是有“蓝珠”和系统黑科技开挂，而傅教授他们，是实打实地凭借自身的智慧和毅力，在攀登一座被认为几乎不可能独自登顶的技术高峰！
这种纯粹的科研精神和强大的创新能力，让林飞肃然起敬。
“挖！必须挖过来！”林飞瞬间下定了决心。
这样的人才和团队，其价值无法估量！
不仅仅是对于神脑集团，对于整个国家的半导体产业，都可能是一剂强心针！
他立刻在网上秘密渠道搜索到了傅国生教授的联系方式。
很快，在理工大学微电子学院的官网上，找到了一个办公电话和一个校内邮箱。
林飞默默地将这些信息记下。
他决定，明天一早就亲自去一趟理工大学，拜访这位令人敬佩的老教授。
这种级别的人才，必须拿出最大的诚意，亲自去请。
关上电脑，夜已深沉。
林飞却没有丝毫睡意，内心的兴奋和期待如同燃烧的火焰。
他驱车回到御湖公馆的家中，父母早已休息，屋内一片安静。
他轻手轻脚地回到自己房间，关上门，却没有开灯，而是走到窗前，望着窗外静谧的夜色。
心念一动，意识沉入体内那枚散发着幽蓝光芒的“蓝珠”之中。
浩瀚如星海的符文技术资料库再次呈现。
林飞集中精神，检索与“光刻”相关的技术分支。
瞬间，海量的信息流涌入他的意识：从最基础的紫外线光刻原理，到深紫外（dUV），再到极紫外（EUV）。
以及更前沿的x射线光刻、电子束光刻、纳米压印……
甚至还有涉及量子隧穿效应的原子级精度制造理论……包罗万象，深不见底。
他特别关注了EUV光刻技术，以及迈向1纳米及以下节点所面临的核心挑战：
光源功率与稳定性、光学系统损耗与像差控制、光刻胶灵敏度与分辨率极限、多重图形化技术的复杂度和缺陷率、以及新材料引入带来的集成难题等等。
“蓝珠”中的技术资料不仅提供了理论模型，更有极其详尽的工程实现方案、材料配方、工艺参数优化曲线，甚至包括一些地球上尚未发现的特殊材料的合成方法。
其完整度和前瞻性，足以让任何一个半导体专家疯狂。
林飞如饥似渴地吸收着这些知识。
他虽然不可能一夜之间成为光刻机专家，但凭借“蓝珠”的加持，他可以在短时间内，对光刻技术的核心难点、发展趋势以及可能的解决方案有一个远超常人的、高屋建瓴的理解。
这足以让他在明天与傅国生教授的会谈中，能够切中要害，提出有价值的见解，展现出足够的专业性和诚意，而不是一个只会砸钱的门外汉。
时间在专注的学习中飞速流逝。
当窗外天际泛起鱼肚白时，林飞才缓缓睁开眼睛，眸子里闪过一丝疲惫，但更多的是一种深邃的自信光芒。
他对即将到来的会面，充满了期待。
1纳米及以下节点！等效物理栅长0.8纳米！
林飞倒吸一口凉气！心脏砰砰狂跳！
这已经不是对口了，这简直是瞌睡遇到了枕头！
不，是饿极了看到满汉全席！
他原本的计划，是找到一些能做芯片设计、或者对现有工艺有深刻理解的人才。
然后利用国际上最先进的2纳米代工厂来生产神脑头盔所需的超高性能芯片。
毕竟，处理海量神经信号、运行复杂意识交互算法，对芯片的算力、能效比要求是天文数字。
他初步估算，至少需要5纳米甚至3纳米工艺才能勉强满足基本需求，理想状态是未来的0.5纳米工艺。
而目前全球最顶尖的量产技术是2纳米，1纳米还停留在实验室探索阶段，至于0.5纳米，更是属于科幻范畴。
可现在，就在江城，就在一所理工大学里，一个低调的老教授和他的学生团队，居然不声不响地摸到了1纳米的门槛，甚至在探索更低的节点？！
而且看报告摘要，他们似乎在最关键的材料和器件物理层面取得了突破性进展！
这意味着什么？
意味着他们研究的，不仅仅是芯片设计，而是包括了制造芯片的核心母机——光刻机以及与之配套的整套工艺整合技术！
只有掌握了更高精度的光刻和工艺，才能造出更小的晶体管！
诚然，林飞从龙傲天的“系统遗产”中，确实拥有完整且远超这个时代的光刻机技术资料，别说1纳米，0.1纳米甚至更夸张的技术都有。
但技术资料是死的，要把图纸变成现实，需要庞大的工程团队、天量的资金投入和以年为单位的时间。
这完全不比研发意识头盔本身简单。
他的计划是，先集中火力攻克脑机接口和虚拟世界技术，用市场上能买到的最好芯片让产品先跑起来，占领市场和生态。
等站稳脚跟后，再慢慢布局自研光刻机和芯片制造，实现全产业链自主可控。
然而，傅国生教授团队的出现，彻底打乱了他的节奏，也给了他一个巨大的惊喜！
如果这个团队真的在1纳米光刻和工艺上接近突破，那岂不是说，他有可能大大提前实现芯片自研的梦想？
甚至，在神脑头盔问世时，就能用上自研的、领先全球的超高性能芯片？
这将是何等巨大的优势！
激动过后，林飞迅速冷静下来。
他仔细分析着获取到的有限信息。
从专利和报告摘要看，这个团队的技术路径非常独特，似乎绕开了一些传统EUV光刻的难点，在新材料和新结构上找到了突破口。
但摘要也含糊地提到“在光源稳定性与缺陷控制方面仍面临最终挑战”。
看来，他们是卡在了最后一个，也可能是最关键的技术瓶颈上。
“了不起……真的了不起……”林飞喃喃自语，心中充满了敬佩。
要知道，目前国内最先进的量产光刻机还停留在28纳米水平。
虽然不断追赶，但与世界最先进的2纳米差距巨大。
而傅国生团队，完全依靠自身的学术积累和有限的科研经费，竟然能独自摸索到1纳米的前沿，距离突破只差临门一脚！
这已经不是“有点东西”了，这简直是“逆天”！是找到宝藏了啊！
他林飞是有“蓝珠”和系统黑科技开挂，而傅教授他们，是实打实地凭借自身的智慧和毅力，在攀登一座被认为几乎不可能独自登顶的技术高峰！
这种纯粹的科研精神和强大的创新能力，让林飞肃然起敬。
“挖！必须挖过来！”林飞瞬间下定了决心。
这样的人才和团队，其价值无法估量！
不仅仅是对于神脑集团，对于整个国家的半导体产业，都可能是一剂强心针！
他立刻在网上秘密渠道搜索到了傅国生教授的联系方式。
很快，在理工大学微电子学院的官网上，找到了一个办公电话和一个校内邮箱。
林飞默默地将这些信息记下。
他决定，明天一早就亲自去一趟理工大学，拜访这位令人敬佩的老教授。
这种级别的人才，必须拿出最大的诚意，亲自去请。
关上电脑，夜已深沉。
林飞却没有丝毫睡意，内心的兴奋和期待如同燃烧的火焰。
他驱车回到御湖公馆的家中，父母早已休息，屋内一片安静。
他轻手轻脚地回到自己房间，关上门，却没有开灯，而是走到窗前，望着窗外静谧的夜色。
心念一动，意识沉入体内那枚散发着幽蓝光芒的“蓝珠”之中。
浩瀚如星海的符文技术资料库再次呈现。
林飞集中精神，检索与“光刻”相关的技术分支。
瞬间，海量的信息流涌入他的意识：从最基础的紫外线光刻原理，到深紫外（dUV），再到极紫外（EUV）。
以及更前沿的x射线光刻、电子束光刻、纳米压印……
甚至还有涉及量子隧穿效应的原子级精度制造理论……包罗万象，深不见底。
他特别关注了EUV光刻技术，以及迈向1纳米及以下节点所面临的核心挑战：
光源功率与稳定性、光学系统损耗与像差控制、光刻胶灵敏度与分辨率极限、多重图形化技术的复杂度和缺陷率、以及新材料引入带来的集成难题等等。
“蓝珠”中的技术资料不仅提供了理论模型，更有极其详尽的工程实现方案、材料配方、工艺参数优化曲线，甚至包括一些地球上尚未发现的特殊材料的合成方法。
其完整度和前瞻性，足以让任何一个半导体专家疯狂。
林飞如饥似渴地吸收着这些知识。
他虽然不可能一夜之间成为光刻机专家，但凭借“蓝珠”的加持，他可以在短时间内，对光刻技术的核心难点、发展趋势以及可能的解决方案有一个远超常人的、高屋建瓴的理解。
这足以让他在明天与傅国生教授的会谈中，能够切中要害，提出有价值的见解，展现出足够的专业性和诚意，而不是一个只会砸钱的门外汉。
时间在专注的学习中飞速流逝。
当窗外天际泛起鱼肚白时，林飞才缓缓睁开眼睛，眸子里闪过一丝疲惫，但更多的是一种深邃的自信光芒。
他对即将到来的会面，充满了期待。